K. Nakashima; C. Morillo; Y. Kurono; Y. Sawae; J. Sugimura;

X.M. Li; Q.C. Bi; Q.K. Feng; T.K. Chen; S.J. Du

J.L. Hemmerich; P. Milverton

T.K. Bose; D. Allard

L.M. Das

S. Offermanns; E. Roos; W. Stadtmueller;

D.M. Yu; Y. Wang; P. Wu

H. Rainer

A.G. Hansel; M. Fairlie; A. Coutts; R.L. Mauro; K.I. Miller

D. Gabel; U. Hauptmanns

Y. Inagaki; T. Takeda; T. Nishihara; K. Onuki; M. Ogawa; S. Shiozawa;

Y. Miyamoto; S. Shiozawa; M. Ogawa; K. Hada; Y. Inagaki; T. Takeda; T. Nishihara

U. Umesh; A. De; M.K. Das;

Y.L. Liu; J.Y. Zheng; S.X. Han; Y.Z. Zhao

L. Zhang; M. Wen; Z.Y. Li; J.Y. Zheng; X.X. Liu; Y.Z. Zhao; C.L. Zhou;

I.W. Ekoto; W.G. Houf; A.J. Ruggles; L.W. Creitz; J.X. Li;

J.M. Joubert; M. Latroche; A. Percheron-Guegan

D.A. Coutts

M. Sanai

R. Hill; A.S.M. International

S.A. Lelewer; H. Barnes; D. Haberman

P. Therkelsen; J. Mauzey; V. McDonell; S. Samuelsen;

X. Zhang; C. Huang; M. Hernandez; M. Rossetto; Z.S. Liu; R. Klomp; N. Meyer; M.A. Belzile;

K. Chitose; Y. Ogawa; M. Hishida; T. Morii

F. Fineschi; M.N. Carcassi; L. Lusini; F. Pilo